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O modelo de deposição PECVD operando em regime de não colisões tem como principais vantagens proporcionar alta aderência entre filmes DLC - sigla para "Diamond-like carbon" - e os substratos respectivos.
Sobre o modelo de deposição PECVD
- O modelo PECVD ( sigla para "Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition" que em tradução para português fica "Deposição Química a Vapor Assistida por Plasma") consiste em um técnica para a deposição filmes finos do estado gasoso para o sólido em um determinado substrato.
- Nesse sentido, esse modelo, operando em regime de não colisões, tem como em como uma de suas principais vantagens proporcionar alta aderência entre filmes DLC e os substratos respectivos.
- O que, como resultado, gera filmes mais aderentes, mais duros, menos hidrogenados e ainda com um menor coeficiente de atrito.
Para consultar sobre coeficiente de atrito clique aqui: https://brainly.com.br/tarefa/24259583
Bons estudos!
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